这两天国产euv光刻机获得突破的消息满天飞，奉劝各位不要跟着起舞！实际上所谓的euv光刻机被突破，是不准确的。具体消息是长光所又在euv光刻机的核心部件极紫外光光源上取得

这两天国产euv光刻机获得突破的消息满天飞，奉劝各位不要跟着起舞！实际上所谓的euv光刻机被突破，是不准确的。具体消息是长光所又在euv光刻机的核心部件极紫外光光源上取得了突破，当然这是个天大的好消息，但不等于euv光刻机被突破，这其中还是有不小的差别的，当然目前为止基本上euv光刻机的几个主要核心部件都已经搞定或接近搞定，接下来就是整合测试和调试了。

长春光机所EUV光刻机此次进展是国产光刻机光源的突破性进展，技术水平领先世界。众所周知，EUV光刻机是目前制造高端芯片所需要的最关键设备，只有荷兰的ASML公司能生产，这也是我国科技方面卡脖子的关键技术之一。我国目标是要在2025年实现芯片自给率70%，要想实现这个目标，在高端EUV光刻机上实现突破是关键。长春光机所EUV光刻机此次进展无疑给高端EUV光刻机的研究工作打了一剂强心针。

先后参与了包括“两弹一星”、“载人航天工程”等多项国家重大工程项目，先后组建和援建了西安光机所、上海光机所、成都光电所、长春光机学院等10余家科研机构、大专院校和企业单位。完成了一批国家重大任务，取得了以“神舟五号”、“神舟六号”有效载荷等为代表的一批重大科研成果。

因为这个制作起来非常的困难，而且制作起来的时间也是非常的长。芯片在我国的重要性，芯片，指的是集成电路的载体，是集成电路经过设计、制造、封装、测试后的结果。芯片在电子产品中承担着运算和储存的功能，其重要性堪比心脏，并且还被誉为是国家的“工业粮食”。但是其中，我国国产的芯片自给率还不足三成，集成电路的产值也不到全球的7%，也就是说，我们要制造这些产品所需要的芯片，90%都依赖进口。

光刻机是用于生产BGM芯片的机器。目前全世界也只有少数几家公司可以生产光刻机，我国光刻机的加工精度为90纳米，而世界上最好的光刻机精度已经是5纳米了，差距巨大，光刻机是掩模对准曝光机，是制造芯片的核心装备，目前我国光刻机的加工精度是90nm，虽然已经非常精准，但是和发到国家相比，还是有缺陷。光刻机就是用来做手机芯片的。